алюминия и его сплавов с кремнием и медью

HCl/Cl2/N2 - а также в сочетании с антиотражающими покрытиями,

Сl2/НВг/Не/О2 - для травления поликремния,

Cl2/HBr/SF6/O2 - для травления полицидов,

NF3 - для изотропного травления оксидов.

Работа с данными газами предполагает особую конструкцию реакторов и вакуумных систем

4.1 Плазмохимическое травление неорганических материалов

Механизмы плазмохимического травления материалов интересовали многих ученых и технологов , но до недавнего времени исследование механизмов состояло в изучении зависимостей скоростей травления материалов от состава и внешних параметров плазмы. Развитие методов диагностики параметров плазмы (зонды, спектроскопия, в том числе и лазерная), а также применение современных методов анализа поверхности - ренгеноэлектронная спектроскопия, электронная микроскопия, спектроскопия вторичных ионов - позволило подойти как к исследованию механизмов химических реакций в плазме галогенсодержащих газов с целью определения потоков нейтральных частиц на поверхность травимого материала, так и к разработке количественных методов исследования механизмов травления материалов. По существу появилась возможность количественной характеристики состава и энергий частиц пла