Лекционный материал по дисциплине "Наноинженерия" - ТРЕБОВАНИЯ К ОСНОВНЫМ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИМ ПРОЦЕССАМ И ПРИМЕНЯЕМОМУ ОБОРУДОВАНИЮ
Предмет: | Физика |
---|---|
Категория материала: | Конспекты |
Автор: |
Ильина Елена Евгеньевна
|
Жидкостные химические процессы
В производстве ИС с проектными нормами 0,5 мкм и менее необходимо обеспечить чистоту поверхности пластины с поверхностной концентрацией:
1. щелочных и тяжелых металлов < 50 ат/см2;
2. алюминия и кальция < 10 ат/см2;
3. органических примесей (по С) < 10 ат/см2.
Привносимая дефектность, связанная с наличием микрочастиц на поверхности, должна составлять не более 0,02 см2
Комплекс химических обработок (химобработок) в процессе производства состоит из следующих операций (в соответствии с базовым технологическим маршрутом):
1. финишная химобработка;
2. удаление фоторезиста;
3. травление оксидов, стекол;
4. травление нитрида кремния.
Жесткие требования к чистоте поверхности пластин после химобработок определяют и требования к оборудованию для их проведения:
- конструкционные материалы, контактирующие с химическими реактивами и пластинами, не должны подвергаться деградации под их влиянием и не вносить дополнительные загрязнения в химреактивы и деионизованную воду (ДВ); как правило, это фторопласт типа PFA или кварц двойного переплава,
- степень обработки (шероховатость) деталей и узлов оборудования должна исключить возможность накопления загрязнений и генерации микрочастиц; шероховатость должна быть меньше 0,3 мкм, нагрев реагентов должен проводиться радиационными нагревателями; точность поддержания температуры в ваннах не должна превышать 0,1°C;
- перемещение пластин должно производиться автооператором с точностью позиционирования не хуже 1 мкм;
- метод обработки - бесконтактный (облегченные кассеты, имеющие минимальную поверхность и массу, изготовленные, предпо
Тип материала: | Документ Microsoft Word (docx) |
---|---|
Размер: | 1.12 Mb |
Количество скачиваний: | 4 |